株式会社オネスト | 最先端の技術で未来を創る
最先端の技術で未来を創る
私たちは研究者・開発者のための信頼できる素材パートナーです

取扱製品
シリコンウェーハ
実験用・試作用・高純度仕様など多様なサイズと形状をご提供。
成膜・パターンウェーハ
パワーデバイスや研究向けに、先端材料を短納期で手配可能。
SiC・GaN ウェーハ その他化合物基板
パワーデバイスや研究向けに、先端材料を短納期で手配可能。
ガラス基板
EagleXG/ソーダライムガラス(青板)/B270i(白板)/TPX(テンパックス)/BK7/合成石英/D263Teco/ゴリラ/ITO膜付き/その他、各種特殊硝子
ウェーハケース
カセットケース/プロトスケース/ウェハジャー/枚葉ケース/フレーム付きウェハケース/フレームシッパー/チップトレイ/ゲルベーストレイ
加工・検査サービス
オネストでは、ウェーハ素材のご提供だけでなく、各種加工や検査工程にも対応しております。
試作開発から研究用途、装置検証に至るまで、ニーズに合わせた柔軟な対応が可能です。
薄膜成膜
各種スパッタ、CVD、ALDによる薄膜成膜に対応。膜厚管理や材質選定もご相談可能です。
フォトリソ・エッチング
パターン形成からドライ/ウェットエッチングまで対応。研究向け微細加工に最適です。
熱処理・洗浄・ダイシング
アニール、洗浄、カット、穴あけ、ザグリ加工など、試作に必要な工程を一括対応。
その他の特殊加工・表面処理・寸法測定・厚み分布測定なども対応可能です。
詳細は お問い合わせ よりご相談ください。 © 2025 株式会社オネスト. All rights reserved.