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株式会社オネスト | 最先端の技術で未来を創る

最先端の技術で未来を創る

私たちは研究者・開発者のための信頼できる素材パートナーです

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取扱製品

シリコンウェーハ

シリコンウェーハ

実験用・試作用・高純度仕様など多様なサイズと形状をご提供。

成膜・パターンウェーハ

成膜・パターンウェーハ

パワーデバイスや研究向けに、先端材料を短納期で手配可能。

SiC・GaN ウェーハ その他化合物基板

SiC・GaN基板

パワーデバイスや研究向けに、先端材料を短納期で手配可能。

ガラス基板

ガラス基板

EagleXG/ソーダライムガラス(青板)/B270i(白板)/TPX(テンパックス)/BK7/合成石英/D263Teco/ゴリラ/ITO膜付き/その他、各種特殊硝子

ケース類

ウェーハケース

カセットケース/プロトスケース/ウェハジャー/枚葉ケース/フレーム付きウェハケース/フレームシッパー/チップトレイ/ゲルベーストレイ

加工・検査サービス

オネストでは、ウェーハ素材のご提供だけでなく、各種加工や検査工程にも対応しております。
試作開発から研究用途、装置検証に至るまで、ニーズに合わせた柔軟な対応が可能です。

薄膜成膜

各種スパッタ、CVD、ALDによる薄膜成膜に対応。膜厚管理や材質選定もご相談可能です。

フォトリソ・エッチング

パターン形成からドライ/ウェットエッチングまで対応。研究向け微細加工に最適です。

熱処理・洗浄・ダイシング

アニール、洗浄、カット、穴あけ、ザグリ加工など、試作に必要な工程を一括対応。

その他の特殊加工・表面処理・寸法測定・厚み分布測定なども対応可能です。
詳細は お問い合わせ よりご相談ください。 © 2025 株式会社オネスト. All rights reserved.

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